(首尔/北京综合讯)韩国媒体报道称,一名曾在中国半导体企业工作的韩国人被指泄露了该企业相关机密,涉嫌违反中国《反间谍法》而被捕。

韩联社星期二(10月29日)引述韩国外交消息人士作出上述报道。

据报道,这名被捕的韩国人50多岁,居住在安徽省合肥市,于去年底被拘留。此案之后被移交至中国检方,他也在数月前被正式逮捕。

该名韩国人曾在中国一家半导体企业工作。中国侦查部门指他向韩国泄露了该企业的半导体相关机密。

这是首起旅华韩侨因涉嫌违反《反间谍法》而在中国被捕的案例。

此前,已有日本人在中国涉间谍罪被捕。日本共同社今年8月21日从日本政府相关人士处获悉,安斯泰来制药公司(Astellas Pharma)的一名日籍男性员工去年3月在北京被拘留,中国检察机关以间谍罪起诉了他。该日籍男子在华工作20年,曾是日本中国商会高层。

日本政府称,自中国2014年11月通过《反间谍法》后,至少有17名日本公民在中国被拘留。

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