针对“清华大学EUV项目把阿斯麦(ASML)的光刻机巨大化,实现光刻机国产化”的传闻,中国电子院回应称,该项目并非网传的国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目。

据澎湃新闻早前报道,一则在各大社交平台上广为流传的视频称,北京清华大学科研团队弯道超车,突破美国技术封锁,实现光刻机的巨大化,国产EUV光刻机获得突破,并称该项目已在河北省保定市雄安新区落地。

中国电子工程设计院有限公司星期一(9月18日)通过官方微信公众号澄清,上述项目并非网传的中国国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。

中国电子院介绍,HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重大科技基础设施,是中国第一台高能量同步辐射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。这个项目早在2019年就开始建设、将于2025年底投入使用。

中国电子院表示,HEPS可以被视为一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机,它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。

中国电子院强调,HEPS是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。